Polovodiče

Nanometrické polohování na litografických strojích

Pro osvětlení jednotlivých komponent na plátku se litografická zařízení pohybují plátkem do příslušné polohy. Kapacitní snímače posuvu měří polohu dráhy pohybu tak, aby umožňovaly přesné umístění nanometrů.

Umístění masky v litografii

Litografické procesy vyžadují vysoké rozlišení a dlouhodobé měření pohybu strojů, aby bylo dosaženo maximální přesnosti. Vysoké rozlišení umožňuje nanometricky přesné umístění masky pomocí kapacitních snímačů Micro-Epsilon. Jejich vhodná konstrukce umožňuje použití snímačů a kabelů v ultra-velkém vakuu.

Doporučená technologie senzorů

capaNCDT 6200

Vysoce přesné měření tloušťky křemíkových destiček

Pro přesné měření tloušťky destiček se používají kapacitní snímače. Dva protilehlé snímače detekují tloušťku a také měří další parametry, jako jsou například deformace nebo řezné značky. Umístění oplatky v měřicí mezery se může lišit.

MICRO-EPSILON Czech Republic
Na Libuši 891
39165 Bechyně, Czech Republic
info@micro-epsilon.cz
+420 381 213 011
+420 381 211 060