Umístění masky v litografii

Litografické procesy vyžadují vysoké rozlišení a dlouhodobé měření pohybu strojů, aby bylo dosaženo maximální přesnosti. Vysoké rozlišení umožňuje nanometricky přesné umístění masky pomocí kapacitních snímačů Micro-Epsilon. Jejich vhodná konstrukce umožňuje použití snímačů a kabelů v ultra-velkém vakuu.

Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Dank der hohen Auflösung ermöglichen kapazitive Sensoren von Micro-Epsilon die nanometergenaue Positionierung der Masken. Vakuumtaugliche Ausführungen der Sensoren und Sensorkabel erlauben den Einsatz bis ins UHV. Zum Produkt capaNCDT 6200 Applikationen Branchen Additive Fertigung