Umístění masky v litografii

Litografické procesy vyžadují vysoké rozlišení a dlouhodobé měření pohybu strojů, aby bylo dosaženo maximální přesnosti. Vysoké rozlišení umožňuje nanometricky přesné umístění masky pomocí kapacitních snímačů Micro-Epsilon. Jejich vhodná konstrukce umožňuje použití snímačů a kabelů v ultra-velkém vakuu.